[发明专利]清洁掩模的系统、清洁基板的系统、与清洁方法有效
| 申请号： | 201510860059.2 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106391542B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 沈经纬;吕启纶;林冠文 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;G03F1/82 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 周滨;章侃铱 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种清洁掩模的系统、清洁基板的系统、与清洁方法，系统包括：托架，设置以支撑掩模且位于掩模的第一侧；声音能量产生器，设置以产生声音能量，其包括超声波的频率与波长的机械振动；以及流体施加器，耦接至声音能量产生器，使流体施加器接收声音能量产生器产生的声音能量，以产生声音搅动的流体流导向掩模的第二侧，其中掩模的第一侧与第二侧对向设置，且其中掩模的第一侧包括图案。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁掩模的系统，包括：一托架，设置以支撑一掩模且位于该掩模的第一侧；一声音能量产生器，设置以产生声音能量，其包括超声波的频率与波长的机械振动；以及一流体施加器，耦接至该声音能量产生器，使该流体施加器接收该声音能量产生器产生的声音能量，以产生声音搅动的流体流导向该掩模的第二侧，其中该掩模的第一侧与该掩模的第二侧对向设置；该掩模的第一侧包括一图案；该流体施加器和该声音能量产生器产生该声音能量的一振幅，使得该声音搅动的流体流导向该掩模的该第二侧产生沿着该掩模的该第一侧的整体的一声音反应；以及该声音搅动的流体流不留在该掩模的该第二侧。
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