[发明专利]微影术系统及其使用方法有效
| 申请号： | 201510860745.X | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106483772B | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 张书豪;陈家桢;陈政宏;高国璋;简铭进;简上傑;严涛南;黄建元 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种微影术系统及其使用方法，微影术系统包括一负载锁定腔室，此负载锁定腔室包括配置用以接收遮罩的开口；曝光模块，其配置用以经由使用遮罩，使半导体晶圆曝露于光源；及清洗模块，其嵌入在此微影术工具内，此清洗模块配置用以自遮罩清洗碳粒子。本发明内容可提供一种用于高级微影术技术中，保持遮罩干净且无缺陷的方法。此方法所形成的干净无缺陷遮罩，可提升微影术工艺的良率与精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 微影术 遮罩 负载锁定腔室 清洗模块 配置 半导体晶圆 曝光模块 精准度 碳粒子 良率 曝露 光源 嵌入 清洗 开口 | ||
【主权项】：
1.一种微影术系统，其特征在于，包括：一负载锁定腔室，其包括一配置用以接收一遮罩的开口；一曝光模块，其配置用以经由使用该遮罩使一半导体晶圆曝光至一光源；以及一清洗模块，其嵌入在该微影术系统内，该清洗模块配置用以自该遮罩清洗碳粒子。
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