[发明专利]光罩基板以及光罩在审
| 申请号： | 201510861398.2 | 申请日： | 2015-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN105404092A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 戴昌铭 | 申请（专利权）人： | 冠橙科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/56 | 分类号： | G03F1/56;G03F1/60;G03F7/004;G03F7/032 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 张欢勇 |
| 地址： | 中国台湾苗栗*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明系揭露一种光罩基板，包含透明基板而将曝光光线予以投送于该透明基板之上，以及黑色矩阵光阻层，经配置而包括炭黑分散液、具有胺基的共聚物及/或具有季铵盐的共聚物、含有分散成分的有机溶剂、具有羧基的黏合剂树脂、不饱和单体、以及卤素光的光敏材料或波长范围在480-540纳米的绿光的光敏材料，使得该黑色矩阵光阻层系作为一个单层以作为遮光膜及曝光的感光膜，以及使得该黑色矩阵光阻层的表面经制造而为防止化学处理操作的损伤及机械性刻刮。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩基板 以及 | ||
【主权项】：
一种光罩基板，其特征在于，包含：透明基板，而将曝光光线予以投送于所述透明基板之上；以及黑色矩阵光阻层，其中，所述黑色矩阵光阻层经配置而包括碳黑分散液、具有胺基的共聚物及/或具有季铵盐的共聚物、含有分散成分的有机溶剂、具有羧基的黏合剂树脂、不饱和单体、以及卤素光的光敏材料或波长范围在480‑540纳米的绿光的光敏材料，使得所述黑色矩阵光阻层系作为一个单层以作为遮光膜及曝光的感光膜，以及使得所述黑色矩阵光阻层的表面经制造而为防止化学处理操作的损伤及机械性刻刮。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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