[发明专利]一种高压肖特基二极管有效
申请号: | 201510864419.6 | 申请日: | 2015-12-01 |
公开(公告)号: | CN105355666B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 卢晔 | 申请(专利权)人: | 成都九十度工业产品设计有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/45;H01L29/47;H01L21/329 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 刘世权 |
地址: | 610000 四川省成都市武侯区武侯*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种高压肖特基二极管,其特征在于:包括衬底、外延层、金属接触层和保护层;所述衬底上表面外延生长有外延层;多个沟槽,间隔形成于所述外延层中;所述金属接触层设于外延层的上表面;所述金属接触层两端各设有一个欧姆接触金属,肖特基接触金属设置于金属接触层的中心部位,欧姆接触金属与肖特基接触金属之间设置有源层;所述肖特基接触金属上表面设有保护层;所述欧姆接触为高压肖特基二极管的阴极;所述肖特基接触为高压肖特基二极管的阳极。本发明高压肖特基二极管能够提高反向偏压,减小反向漏电流。 | ||
搜索关键词: | 肖特基二极管 金属接触层 肖特基接触 外延层 欧姆接触金属 保护层 上表面 金属 阴极 衬底上表面 反向漏电流 阳极 反向偏压 欧姆接触 外延生长 衬底 减小 源层 | ||
【主权项】:
1.一种高压肖特基二极管,其特征在于:包括衬底、外延层、金属接触层和保护层;所述衬底上表面外延生长有外延层;多个沟槽,间隔形成于所述外延层中;所述金属接触层设于外延层的上表面;所述金属接触层两端各设有一个欧姆接触金属,肖特基接触金属设置于金属接触层的中心部位,欧姆接触金属与肖特基接触金属之间设置有源层;所述肖特基接触金属上表面设有保护层;所述欧姆接触为高压肖特基二极管的阴极;所述肖特基接触为高压肖特基二极管的阳极;所述沟槽的槽壁介质采用的是SiO2,厚度为1 um~3um,深度为2 um~7um,沟槽的间隔宽度为1 um~2um,沟槽的宽度为0.5um,所述沟槽的开口直径小于底部的直径;所述沟槽内填充有P型硅;所述肖特基接触金属所采用的是Ni或Ti,肖特基接触金属的厚度为1.3um,肖特基接触金属的厚度大于有源层的厚度。
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