[发明专利]触头的接触结构有效

专利信息
申请号: 201510866057.4 申请日: 2015-12-02
公开(公告)号: CN106299784B 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 饴井俊裕 申请(专利权)人: SMK株式会社
主分类号: H01R13/02 分类号: H01R13/02
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 代理人: 方挺;侯晓艳
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种触头的接触结构,能够与接触或分离的一对触头之间积蓄的电能的大小无关地,通过简单的结构可靠地防止产生电弧放电。使用电阻率比第一触头高的材料形成沿着第二触头的移动路径与第一触头连续的中间接触体,该中间接触体形成为与移动路径正交的横截面的截面面积在移动路径的分离方向上逐渐减小的形状。中间接触体的电阻值和从与第一触头相连接的基端起的距离成正比而大幅度增加,因此,能够以基端至前端的较短的长度实现高电阻值,从而在中间接触体的前端附近分离的第二触头间不会产生电弧放电。
搜索关键词: 接触 结构
【主权项】:
1.一种触头的接触结构,相互电连接的第一触头和电阻率比第一触头高的中间接触体沿着与第一触头接触或分离的第二触头的移动路径连续地露出,沿着移动路径从第一触头朝分离方向移动的第二触头在从第一触头分离并与中间接触体接触后从中间接触体分离,所述触头的接触结构的特征在于,中间接触体形成为下述形状,即,在与第一触头电连接的基端至分离方向的前端的至少任意一个区间内,与移动路径正交的横截面的截面面积在分离方向上逐渐减小,在所述区间内,随着第二触头从所述基端向分离方向移动,从所述基端到中间接触体与第二触头接触的接触位置的电阻与第二触头距所述基端的距离成正比增加。
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