[发明专利]一种硅片亲水性检测平台在审
| 申请号： | 201510867791.2 | 申请日： | 2015-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN105334141A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 黄纪德;金井升;蒋方丹;金浩 | 申请（专利权）人： | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分类号： | G01N13/00 | 分类号： | G01N13/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 314416 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片亲水性检测平台，包括：载片基板，所述载片基板的正面具有凹槽，所述凹槽用于承载待测硅片，所述凹槽的底面与所述载片基板的表面平行；刻度标尺，所述刻度标尺设置于所述载片基板上，沿着所述载片基板与所述凹槽的相交线设置，用于在硅片滴液后判断液滴扩散范围；水平基板，所述水平基板与所述载片基板的下端铰接，用于控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度。所述硅片亲水性检测平台使用载片基板承载硅片，测试稳定，倾斜角度可控，同时使用刻度标尺检测液滴亲水性效果，结果准确，判断方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 亲水性 检测 平台 | ||
【主权项】：
一种硅片亲水性检测平台，其特征在于，包括：载片基板，所述载片基板的正面具有凹槽，所述凹槽用于承载待测硅片，所述凹槽的底面与所述载片基板的表面平行；刻度标尺，所述刻度标尺设置于所述载片基板上，沿着所述载片基板与所述凹槽的相交线设置，用于在硅片滴液后判断液滴扩散范围；水平基板，所述水平基板与所述载片基板的下端铰接，用于控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度。
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