[发明专利]一种LEF库与GDS库障碍图层对比检查的方法在审
| 申请号： | 201510868355.7 | 申请日： | 2015-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN106815384A | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | 傅静静;陈彬;董森华;刘毅 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天软件有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 随着超大规模集成电路的不断发展，在标准单元库设计和IP模块设计中，都会面对越来越复杂的LEF库和越来越庞大的GDS库。如何保证LEF库单元和GDS库单元之间的一致性，提高设计质量已经成为了业界关注的焦点。本文提出了一种方法，针对各个对应的布线层，抽取LEF库中的管脚图形和OBS障碍图层图形，对比检查与GDS库中形状的覆盖关系。如果发现有设计不一致的情况，利用图形化高亮显示结果，并提供详细的文本检查报告，帮助使用者方便地进行库单元的检查与修正，以保证设计质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 lef gds 障碍 对比 检查 方法 | ||
【主权项】：
一种LEF库与GDS库障碍图层对比检查的方法，涉及到EDA设计工具的主要特征为:1）自动检查集成电路设计标准单元及IP模块中的LEF库与GDS库之间图层的一致性，并提供检查报告；2）在LEF库单元中提取各个图层中的管脚形状（pin shape）和OBS障碍图层形状；3）在GDS库单元中提取各个图层中的几何形状；4）针对每个图层，对比检查LEF库中定义的管脚形状和OBS障碍形状的并集是否可以覆盖GDS库中的所有形状；5）如果找到GDS库的某些形状不能被覆盖，利用图形高亮显示的方式，结合文字报告形式向使用者进行汇报。
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