[发明专利]一种适用于活塞环的QPQ处理工艺在审
申请号: | 201510868444.1 | 申请日: | 2015-12-02 |
公开(公告)号: | CN105297125A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 张一帆 | 申请(专利权)人: | 成都锦汇科技有限公司 |
主分类号: | C25F1/00 | 分类号: | C25F1/00;C23C8/34 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 邹翠 |
地址: | 610000 四川省成都市锦江区*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种适用于活塞环的QPQ处理工艺。工艺步骤如下:1)清洗,在水基清洗剂的作用下,以100~150 A/dm2的电流密度清洗0.05-0.1s;2)预热,在280-320℃的温度下,在空气炉中对工件加热20-30min;3)渗氮,将预热后的工件置于600-630℃的盐浴中,处理120min;4)氧化和抛光,在AB1盐浴中氧化后,加热漂洗后,机械抛光;5)二次氧化,在AB1盐浴中再次氧化,氧化完成后加热漂洗,自然干燥后浸油。工艺经过氮碳共渗和二次氧化,提高处理层的厚度,进一步提高工件的抗腐蚀性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 活塞环 qpq 处理 工艺 | ||
【主权项】:
一种适用于活塞环的QPQ处理工艺,其特征在于:工艺步骤如下:1)清洗在水基清洗剂的作用下,以100~150 A/dm2的电流密度清洗0.05‑0.1s;2)预热在280‑320℃的温度下,在空气炉中对工件加热20‑30min;3)渗氮将预热后的工件置于600‑630℃的盐浴中,处理120min;4)氧化和抛光在AB1盐浴中氧化后,加热漂洗后,机械抛光;5)二次氧化在AB1盐浴中再次氧化,氧化完成后加热漂洗,自然干燥后浸油。
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