[发明专利]一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法

摘要

一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法，步骤为：第一步，将含有m个采样点，点距为△x的一维位场异常数据读取到一维数组f中；第二步，对f进行一维离散小波多尺度分解；第三步，分别提取每一尺度小波细节的高频分量，并进行一维离散小波反变换；第四步，将尺度维等效为拟深度维，并按由小尺度到大尺度的顺序组建多尺度高频分量的位场异常数据，形成二维数据F；第五步，对二维数据F进行网格化及插值处理，然后将其绘制成二维位场异常剖面图，便实现了一维位场异常曲线构建二维位场异常剖面，获得的二维剖面具有异常信息展示直观、易于地质解释的优点。

主权项

一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步，将含有m个采样点，点距为△x的一维位场异常数据读取到一维数组f中；第二步，对一维数组f进行一维离散小波多尺度分解，一维离散小波多尺度分解正变换为：$\begin{array}{cc}W(a,b)=\frac{1}{\sqrt{\left|a\right|}}\underset{i=0}{\overset{m-1}{\Σ}}{\mathrm{\ψ}}^{*}\left(\frac{i\·\mathrm{\Δ}x-b}{a}\right)f(i\·\mathrm{\Δ}x)& a\≠0\end{array}$式中，ψ称为基本小波；ψ^*为ψ的共轭函数；a表示伸缩系数，反映特定基函数的宽度；b表示平移系数，指定沿x轴平移的位置，且并令a₀＝2，b₀＝1，j∈Z，k∈Z；△x为点距；i＝0，1，…，m‑1，为采样序号；第三步，分别提取每一尺度小波细节的高频分量，并进行一维离散小波反变换，一维离散小波多尺度分解反变换为：$f\left(x\right)=\underset{j=-\mathrm{\∞}}{\overset{+\mathrm{\∞}}{\Σ}}\underset{k=-\mathrm{\∞}}{\overset{+\mathrm{\∞}}{\Σ}}W(j,k)\mathrm{\ψ}(2^{-j}x-k)$式中，ψ称为基本小波；j∈Z，k∈Z；x＝i·△x，为数据采样点坐标；△x为点距；i＝0，1，…，m‑1，为采样序号；第四步，将尺度维等效为拟深度维，并按由小尺度到大尺度的顺序组建多尺度高频分量的位场异常数据，形成二维数据F；第五步，对二维数据F进行网格化及插值处理，然后将其绘制成二维位场异常剖面图，便实现了一维位场异常曲线构建二维位场异常剖面。