[发明专利]量子点彩膜基板的制作方法

摘要

本发明提供一种量子点彩膜基板的制作方法，先在衬底基板上依次涂布形成黑色光刻胶层和透明光刻胶层，然后利用掩模板上不同灰度的第一、第二、第三图形图形化所述黑色光刻胶层和透明光刻胶层，得到对应所述第一图形的数条透明挡墙、对应所述第二图形且位于所述透明挡墙上的辅助间隔物、及对应所述第三图形且位于所述透明挡墙上的主间隔物，同时得到被所述数条透明挡墙所覆盖的数条黑色挡墙；所述数条黑色挡墙、及其上的数条透明挡墙共同构成像素挡墙；然后在数条像素挡墙围出的子像素区域内采用喷墨打印的方式形成图形化量子点层，喷墨打印的精度得到较大提升。

主权项

一种量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、提供一衬底基板(11)，在所述衬底基板(11)上涂布形成一层黑色光刻胶层(12)，对所述黑色光刻胶层(12)进行真空干燥及预烘烤，以除去所述黑色光刻胶层(12)中的部分溶剂；步骤2、在所述黑色光刻胶层(12)上涂布形成一层透明光刻胶层(13)；步骤3、提供掩模板(50)，所述掩模板(50)上具有数个不同灰度的第一、第二、第三图形(51、52、53)，采用紫外光通过掩模板(50)对所述透明光刻胶层(13)进行曝光；步骤4、对所述黑色光刻胶层(12)及透明光刻胶层(13)进行显影制程，得到属于所述透明光刻胶层(13)的对应所述第一图形(51)的数条透明挡墙(131)、对应所述第二图形(52)且位于所述透明挡墙(131)上的数个辅助间隔物(132)、及对应所述第三图形(53)且位于所述透明挡墙(131)上的数个主间隔物(133)，同时得到属于所述黑色光刻胶层(12)的被所述数条透明挡墙(131)所覆盖的数条黑色挡墙(121)；其中，所述主间隔物(133)的高度大于所述辅助间隔物(132)的高度；所述数条黑色挡墙(121)、及其上的数条透明挡墙(131)构成数条像素挡墙(100)，在所述衬底基板(11)上围出数个红色子像素区域、数个绿色子像素区域、及数个蓝色子像素区域；步骤5、对所述黑色挡墙(121)、透明挡墙(131)、辅助间隔物(132)、及主间隔物(133)进行烘烤，以除去其中大部分溶剂，增强其固化程度和附着力；步骤6、在所述衬底基板(11)上对应所述红色、绿色、及蓝色子像素区域采用喷墨打印的方式分别形成图形化的红色、绿色、及蓝色量子点层(141、142、143)。