[发明专利]一种抗菌保护膜的制备方法和抗菌保护膜

摘要

本发明公开了一种抗菌保护膜的制备方法，包括纳米银结构体溶液的制备、光固化胶的制备、涂布和光固化四步骤。本发明采用还原法一步生成银纳米结构体溶液，并将结构体溶液直接与紫外光固化低聚物和引发剂混合制得光固化胶，可以避免银纳米线与还原反应液之间的分离操作；离心洗涤过程中银纳米线之间容易发生缠结，用于粘度较大的光固化胶中还需要使用超声分散等中间预处理，本发明简化了上述操作，工序少，工艺路线短，同时还避免了在烘干等处理过程中纳米银表面的氧化，保证了纳米银线的杀菌性能。本发明还公开了一种平整度和透光率优良的抗菌保护膜。

主权项

1.一种抗菌保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：以银盐、稳定剂、多羟基化合物为原料，制备含纳米银线的纳米银结构体溶液，制备纳米银结构体溶液的原料中还包括咪唑型离子液体，银盐与稳定剂的摩尔比为1：1～2，银盐与多羟基化合物的摩尔比为1：150～200，银盐和咪唑型离子液体的加入量之间的摩尔比为1：0.01～2；S2：制备光固化胶，光固化胶中的主要组成为纳米银结构体溶液、紫外光固化低聚物、光引发剂、有机溶剂，光固化胶的组成按重量百分比计包括：30～47%的有机溶剂、紫外光固化低聚物20～40%、光引发剂5～20%、光固化胶中还含有溶剂型分散剂10～20%，所述分散剂为选自丙二醇甲醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚中的至少一种，纳米银结构体溶液0.1～10%，所述光固化胶中还含有二氧化硅，光固化胶中二氧化硅含量为5～15%，所述有机溶剂由C3～C6的低级酮溶剂和C1～C4的低级醇溶剂混合而成，其中有机溶剂中低级酮溶剂的重量百分比为50～86%，紫外光固化低聚物为选自聚酯丙烯酸酯类低聚物、环氧丙烯酸酯类低聚物、聚氨酯丙烯酸酯类低聚物中的至少一种；S3：将光固化胶涂布于基材膜的透明基材层表面，基材膜包含透明基材层和光学胶层；S4：紫外光固化处理，制得抗菌保护膜。