[发明专利]一种制备柔性AZO薄膜的方法在审
| 申请号： | 201510876503.X | 申请日： | 2015-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN105483630A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;姚婷婷;钟汝梅;杨勇;张宽翔;蒋继文;曹欣;徐根保 | 申请（专利权）人： | 凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 杨晋弘 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种制备柔性AZO薄膜的方法，包括以下步骤：a) 将磁控溅射装置的AZO靶材设为两个，并上下相对设置，磁控溅射装置内还设有在AZO靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；b)将柔性衬底设置于两个靶材的外侧，使柔性衬底与靶材垂直；c)对柔性衬底进行预溅射；d)对柔性衬底进行溅射沉积底层AZO薄膜；e) 在底层AZO薄膜基础上再溅射沉积AZO薄膜；溅射过程中，二次电子飞出靶面后，被有效的封闭在两个靶之间作洛仑兹运动，形成柱状等离子体，最终沉积在柔性衬底上；由于电子能量很低，柔性衬底温升较低并且使得薄膜有效避免了离子损伤，同时，薄膜在室温中沉积，避免柔性衬底在传统磁控溅射过程中烧糊，变形等损坏，保证薄膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 柔性 azo 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种制备柔性AZO薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：a) 将磁控溅射装置的AZO靶材设为两个，两个AZO靶材上下相对设置，磁控溅射装置内还设有在两个AZO靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；b)将柔性衬底设置于两个AZO靶材的外侧，使柔性衬底与靶材垂直；c)对柔性衬底进行预溅射；d) 将磁控溅射装置的功率设为200～300W，以1.76～2.65W/cm2的功率密度对柔性衬底进行溅射，使柔性衬底上生长一层厚度为50～80nm的底层AZO薄膜；e)将磁控溅射装置的功率调整为400～600W，以3.52～5.30W/cm2的功率密度对柔性衬底进行溅射，使柔性衬底在底层AZO薄膜基础上再生长一层厚度为270～300nm的AZO薄膜。
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