[发明专利]一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置在审
| 申请号： | 201510876661.5 | 申请日： | 2015-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN105369206A | 公开（公告）日： | 2016-03-02 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;姚婷婷;金克武;张宽翔;杨勇;蒋继文;曹欣;徐根保 | 申请（专利权）人： | 凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 杨晋弘 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧；溅射过程中，二次电子飞出靶面后，被靶材阴极的电场加速，电子受磁场束缚向阳极运动，并被有效的封闭在两个靶极之间作洛仑兹运动，形成柱状等离子体，电子能量耗尽后，最终沉积在基片上；由于该电子的能量很低，基片温升较低并且使得薄膜有效避免了离子损伤，同时，薄膜是由靶材离子散射和热分解沉积得到，因此薄膜在室温中沉积，避免柔性衬底在传统磁控溅射过程中烧糊，变形等损坏，保证薄膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 柔性 衬底 薄膜 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，其特征在于，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧。
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