[发明专利]有限距成像系统垂轴放大率的测量方法

摘要

有限距成像系统垂轴放大率的测量方法，涉及光学系统检测领域，解决现有光学系统的垂轴放大率测量方法需要借助在物像面安置小孔板的方式，存在执行成本高，且不易控制实现的问题，在光学系统中载入带标记的光学元件面形，对光学系统进行优化，建立修正后的光学系统模型；通过系统物平面的位移量和与像平面的位移量的比例关系，计算轴向放大率；根据垂轴放大率和轴向放大率的关系，计算垂轴放大率，并建立计算垂轴放大率与设计的垂轴放大率的对应关系；确定光学系统物平面的位移量的区间和光学系统像平面的初始位置；采用修正后的模型，对实际光学系统进行装配和装调；获得实际光学系统的垂轴放大率。本发明操作简便、快捷，且具有较高的测量精度。

主权项

有限距成像系统垂轴放大率的测量方法，其特征是，该方法包括以下步骤：步骤一、在光学软件设计的光学系统中载入带标记的光学元件面形，并对所述的光学系统进行优化，建立修正后的光学系统模型；步骤二、在步骤一所述的光学系统模型中，通过所述光学系统物平面的位移量和与光学系统像平面的位移量的比例关系，计算所述光学系统的轴向放大率；步骤三、根据光学系统的垂轴放大率β和步骤二中获得的光学系统的轴向放大率的关系，计算所述光学系统的垂轴放大率β，并建立所述计算光学系统的垂轴放大率β与步骤一中光学软件设计的光学系统的垂轴放大率β′的对应关系；步骤四、根据步骤三中所述的光学系统的垂轴放大率β与光学软件设计的光学系统的垂轴放大率β′的对应关系，确定光学系统物平面的位移量的区间和光学系统像平面的初始位置；步骤五、采用步骤一中修正后的光学系统模型，对实际光学系统进行装配和装调；步骤六、在完成装调的光学系统上，通过光学系统物平面的位移量和光学系统像平面的位移量的比例关系，计算实际光学系统的轴向放大率，并计算实际光学系统的垂轴放大率。