[发明专利]一种抑制放大自发辐射的片状激光放大器在审
申请号: | 201510886026.5 | 申请日: | 2015-12-07 |
公开(公告)号: | CN105375326A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 肖凯博;郑万国;郑建刚;蒋新颖;严雄伟;王振国;李敏;张君;田晓琳;张雄军;李明中;袁晓东;粟敬钦;胡东霞;朱启华 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | H01S3/16 | 分类号: | H01S3/16;H01S3/10;H01S3/0941 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 赵慧 |
地址: | 621900*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种抑制放大自发辐射的片状激光放大器,包括增益介质,所述增益介质至少为2片,所述增益介质位于同一平面内,所述增益介质之间固定有间隔层,所述间隔层材质与增益介质材质不同,该激光放大器有效地抑制高增益、大尺寸片状增益介质中放大自发辐射和寄生振荡对效率的影响,使介质中的增益能力达到理论水平,满足高能高功率激光器定标放大和运行的需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 抑制 放大 自发辐射 片状 激光 放大器 | ||
【主权项】:
一种抑制放大自发辐射的片状激光放大器,包括增益介质,其特征在于,所述增益介质至少为2片,所述增益介质位于同一平面内,所述增益介质之间固定有间隔层,所述间隔层材质与增益介质材质不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510886026.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。