[发明专利]一种用于光刻胶组合物的化合物

摘要

本发明涉及一种用于光刻胶组合物的化合物，其适合使用ArF、Krf等的受激准分子激光平版印刷、EUV光刻和EB光刻等，并且其表现出优秀的各种光刻胶能力例如敏感度、清晰度等，并且得到特别改进的线边缘粗糙度和图案纶廓。

主权项

含有式(I)所示化合物的光刻胶组合物，其特征在于光刻胶组合物中包含以下组分：(1)一种或多种树脂，以光刻胶组合物的固体组分总重量为基准计，存在于组合物中的树脂的量为70到95wt％；(2)如下所示式(I)化合物，以光刻胶组合物的固体组分总重量为基准计，式(I)化合物的含量通常为0.01‑10重量％，优选0.05‑8重量％，更优选0.1‑5重量％；(3)溶剂；所述固体组分指光刻胶组合物中除溶剂之外的组分，其中所述式(I)所示化合物为：其中R₁‑R₁₂独立地表示卤素、C₁‑C₂₀直连或支链烷基、C₃‑C₃₀环状烃基或C₂‑C₂₀烯基，或者R₁‑R₁₁中的两个或更多个结合起来形成含氮杂环；Y是抗衡阴离子。