[发明专利]具有多端结构的人造突触器件及其制法和应用有效

专利信息
申请号: 201510889347.0 申请日: 2015-12-04
公开(公告)号: CN106847817B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 竺立强;刘阳辉;万昌锦;肖惠 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L27/11551;G06N3/063
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 马莉华;竺云
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了具有多端结构的人造突触器件及其制法和应用。具体地,本发明的人造突触器件包含:依次叠加在衬底上的n个“栅介质底层‑浮栅电极”基本单元,每一个所述“栅介质底层‑浮栅电极”基本单元包含栅介质底层和沉积在其上的浮栅电极层,所述浮栅电极层为金属颗粒层,在最上层的浮栅电极层上继续覆盖一层栅介质顶层,采用离子导体电解质作为所述栅介质;还包含在栅介质层上的一半导体沟道层作为突触后端,以及m个多栅电极,所述多栅电极作为突触前端。本发明采用离子导体电解质作为栅介质,降低了器件的工作能耗,并采用多栅结构,拓宽了人造突触器件的突触响应功能,同时,器件的制作工艺简单,制作成本低廉,具有重要应用前景。
搜索关键词: 具有 多端 结构 人造 突触 器件 及其 制法 应用
【主权项】:
1.一种具有多端结构的人造突触器件,其特征在于,包含:一衬底;位于所述衬底上的n个“栅介质底层‑浮栅电极”基本单元,所述基本单元依次叠加,每一个所述“栅介质底层‑浮栅电极”基本单元包含栅介质底层和沉积在其上的浮栅电极层,其中,所述栅介质底层为无机离子导体电解质,所述浮栅电极层为金属颗粒层,其中n为≥1的整数;位于所述n个“栅介质底层‑浮栅电极”基本单元中最上层的浮栅电极层上方的栅介质顶层,所述的栅介质顶层为无机离子导体电解质;位于所述栅介质顶层上的半导体沟道层,所述的半导体沟道层作为突触后端,位于所述半导体沟道层上的源电极和漏电极;以及位于所述栅介质顶层上的m个多栅电极,其中m为≥2的整数,所述多栅电极作为突触前端。
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