[发明专利]收缩材料和图案形成方法

摘要

本发明提供收缩材料，其包括包含式(1)的重复单元的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。

主权项

1.收缩材料，包括聚合物和溶剂，该溶剂含有不使显影后的抗蚀剂图案消失的抗消失性溶剂，/n所述聚合物包含具有式(1)的重复单元：/n /n其中A为单键或者可在链的中途含有醚氧原子的C₁-C₁₀亚烷基，/nR¹为氢、氟、甲基或三氟甲基，/nR²各自独立地为氢，卤素，任选卤素取代的、直链、支化或环状的、C₂-C₈酰氧基，任选卤素取代的、直链、支化或环状的、C₁-C₆烷基，或者任选卤素取代的、直链、支化或环状的、C₁-C₆烷氧基，/nL为氢，直链、支化或环状的、可在链的中途含有醚氧原子、羰基基团或羰氧基基团的C₁-C₁₀一价脂族烃基，或者任选取代的、一价含芳环的基团，/nR^x和R^y各自独立地为氢、或者直链或支化的、可被羟基或烷氧基结构部分取代的C₁-C₁₅烷基，或者任选取代的一价含芳环的基团，不包括R^x和R^y同时为氢，/nf为1-3的整数，s为0-2的整数，a等于(5+2s-f)，和m为0或1，/n所述收缩材料还包含具有式(9)的盐：/nR¹¹-CO₂^-M⁺ (9)/n其中R¹¹为直链、支化或环状的C₁-C₂₀烷基，直链、支化或环状的C₂-C₂₀烯基或者C₆-C₂₀一价含芳环的基团，其中碳键合的一些或全部氢原子可被氟、含内酯环的基团、含内酰胺环的基团或羟基基团取代，和其中醚、酯或羰基基团可介于碳-碳键之间，和M⁺为锍、碘鎓或铵阳离子。/n