[发明专利]一种香椿高产的种植方法在审
申请号: | 201510899279.6 | 申请日: | 2015-12-09 |
公开(公告)号: | CN105359812A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 高梅珍 | 申请(专利权)人: | 高梅珍 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 224000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种香椿高产的种植方法,本发明的特点在于包括以下步骤:1)土地整理:在冬季对土壤进行翻土、冻土以及施加底肥;2)制作沟槽:相邻的沟槽距离20-30cm,沟槽宽度控制在5-10cm,深度控制在10-15cm;3)播种:向制作好的槽沟中均匀撒入香椿种子,香椿种子播种量控制在5-8kg/亩,然后盖上细土、漫溉后封槽;4)幼苗管理:待香椿幼苗长出后,进行疏苗处理,控制同沟槽内苗距控制在30-50cm;5)成苗管理:次年冬季对香椿头进行剪切,在3-4月份收获香椿芽。本发明公开的香椿高产种植方法,香椿幼苗出芽率高,香椿芽产量能够大幅提高,同时采摘方便,香椿芽品质较好。 | ||
搜索关键词: | 一种 香椿 高产 种植 方法 | ||
【主权项】:
一种香椿高产的种植方法,本发明的特点在于包括以下步骤:1)土地整理:在冬季对土壤进行翻土、冻土以及施加底肥,底肥采用硝酸铵、硝酸钾或磷酸钾的一种或组合,施加量为100kg/亩;2)制作沟槽:相邻的沟槽距离20‑30cm,沟槽宽度控制在5‑10cm,深度控制在10‑15cm;3)播种:向制作好的槽沟中均匀撒入香椿种子,香椿种子播种量控制在5‑8kg/亩,然后盖上细土2‑3cm,漫溉后封槽;4)幼苗管理:待香椿幼苗长出后,进行疏苗处理,控制同沟槽内苗距控制在30‑50cm;5)成苗管理:次年冬季在距香椿头3‑5cm处剪断,包扎处理,在3‑4月份收获香椿芽。
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