[发明专利]真空系统有效

专利信息
申请号: 201510904072.3 申请日: 2015-12-09
公开(公告)号: CN105914125B 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: M·迪亚博格;M·库鲁门;R·西多夫;S·西多夫 申请(专利权)人: 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司
主分类号: H01J49/24 分类号: H01J49/24;H01J49/26
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 浦易文
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种真空系统,该真空系统包括第一真空室和第二真空室,通过第一真空泵、特别是涡轮分子泵将该第一真空室抽真空,该第一真空室和该第二真空室通过通路连接,其中该通路被密封安排包围,该密封安排包括内部密封件和外部密封件,其中压力通风室位于该内部密封件与该外部密封件之间,该压力通风室通过辅助真空泵抽真空,并且其中该内部密封件的至少一个密封面由该第一或该第二真空室的壁材料组成,特别是该内部密封件通过该第一真空室的壁材料与该第二真空室的壁材料之间的直接接触形成。此外,本发明涉及一种质谱系统。
搜索关键词: 真空 系统
【主权项】:
1.真空系统,包括第一真空室(13)和第二真空室(12),通过第一真空泵将该第一真空室(13)抽真空,该第一真空室(13)和该第二真空室(12)是相邻的并且通过通路连接,其中该通路被密封装置圆周地包围,该密封装置包括内部密封件(115)和外部密封件(114),其中通路压力通风室(106)位于该内部密封件(115)与该外部密封件(114)之间,所述通路压力通风室(106)通过辅助真空泵(21)抽真空,并且其中该内部密封件(115)的至少一个密封面由该第一真空室(13)或该第二真空室(12)的壁材料(2、3)组成,其中该第一真空室(13)包括在所述第一真空室的壁内的端口(11),和/或该第二真空室(12)包括在该第二真空室的壁内的端口(10),该端口(11、10)被盖(15)覆盖,其中该端口(11、10)被密封装置包围,该包围端口的密封装置包括内部密封件(101、102)和外部密封件(118、117),其中端口压力通风室(105)位于所述包围端口的密封装置的所述内部密封件(101、102)与所述包围端口的密封装置的所述外部密封件(118、117)之间,并且其中端口压力通风室(105)连接到与所述通路压力通风室(106),这样使得所述通路压力通风室(106)与该端口压力通风室(105)二者都通过该辅助真空泵(21)抽真空,其中该端口压力通风室(105)在覆盖该端口(11、10)的盖(15)与覆盖至该第一真空室(13)和/或该第二真空室(12)的内部端口的第二盖(107、108)之间形成,其中围绕端口(11、10)的密封装置的内部密封件(101、102)的一个密封面由第一真空室(13)的壁材料(3)和/或第二真空室(12)的壁材料(2)构成,而围绕端口(11、10)的密封装置的内部密封件(101、102)的另一个密封面由第二盖(107、108)的材料组成。
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