[发明专利]一种设有反馈去夹持系统的等离子体处理装置和方法有效
申请号: | 201510910239.7 | 申请日: | 2015-12-10 |
公开(公告)号: | CN106876237B | 公开(公告)日: | 2018-11-20 |
发明(设计)人: | 吴磊;林哲全 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;C23C16/44;C23C16/458;H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 徐雯琼;张静洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种设有反馈去夹持系统的等离子体处理装置,包括一等离子体处理腔室,及放置在所述等离子体处理腔室内的静电夹盘,所述静电夹盘用于支撑基片,所述带反馈去夹持系统升举装置;与所述升举装置的末端相连的气缸;驱动气缸运行的气体输送线路以及反馈控制线路。所述反馈控制线路中的压力检测表可以准确的测量在基片与静电夹盘去夹持的过程中气缸前端的气压值,并将该气压值在控制器内与安全压力值进行比较,当压力检测表测得的气缸前端压力不同于安全压力值时,控制器控制减压阀调制输出到安全压力值,保障基片在与静电夹盘去夹持时的安全。 | ||
搜索关键词: | 一种 设有 反馈 夹持 系统 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种设有反馈去夹持系统的等离子体处理装置,包括一等离子体处理腔室,及放置在所述等离子体处理腔室内的静电夹盘,所述静电夹盘用于支撑基片,其特征在于,所述反馈去夹持系统包括:升举装置,用于支撑基片;气缸,与所述升举装置的末端相连,用于驱动所述升举装置的上升和下降;气体输送线路,包括气源,与所述气源相连接的减压阀及与所述减压阀并行连接的一控制阀,所述减压阀和所述控制阀的输出端连接所述气缸;反馈控制线路,包括一设置在所述气缸前端的压力检测表,一与所述压力检测表相连的控制器,所述控制器输送反馈信号至所述减压阀;所述减压阀的输出端设置一安全阀,所述压力检测表测量的气缸前端的气压大于安全压力值时,所述控制器控制所述减压阀降低输出气压并再次测量气缸前端的气压,如果再次测得的气缸前端气压仍然大于安全压力值,断开所述安全阀;所述气源的输出端设置一开关阀,断开所述安全阀后再次测量所述气缸前端的气压,如果测得的气压仍然大于安全压力值,断开所述开关阀。
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