[发明专利]涡轮构件表面处理工序和系统在审
| 申请号： | 201510912320.9 | 申请日： | 2015-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN105689231A | 公开（公告）日： | 2016-06-22 |
| 发明（设计）人： | J.C.鲍默;T.R.里德 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B05D5/00 | 分类号： | B05D5/00;B05D3/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 严志军;周心志 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及涡轮构件表面处理工序和系统。具体而言，涡轮构件表面处理工序包括：使可UV固化掩蔽剂行进通过一个或更多个流体流动通道，其中，该可UV固化掩蔽剂的至少一部分在该涡轮构件的外部表面处离开一个或更多个流体流动通道；将UV光应用至该涡轮构件的外部表面，其中，该UV光使离开该一个或更多个流体流动通道的可UV固化掩蔽剂的至少一部分固化；和，利用处理材料处理该外部表面，其中，通过该UV光而固化的可UV固化掩蔽剂的部分基本上阻塞该处理材料进入该一个或更多个流体流动通道。 | ||
| 搜索关键词： | 涡轮 构件 表面 处理 工序 系统 | ||
【主权项】：
一种涡轮构件表面处理工序，其包括：使可UV固化掩蔽剂行进通过一个或更多个流体流动通道，其中，所述可UV固化掩蔽剂的至少一部分在所述涡轮构件的外部表面处离开所述一个或更多个流体流动通道；将UV光应用至所述涡轮构件的外部表面，其中，所述UV光使离开所述一个或更多个流体流动通道的所述可UV固化掩蔽剂的至少一部分固化；和，利用处理材料处理所述外部表面，其中，通过所述UV光而固化的所述可UV固化掩蔽剂的部分基本上阻塞所述处理材料进入所述一个或更多个流体流动通道。
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