[发明专利]有机层组合物、有机层以及形成图案的方法

摘要

本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。

主权项

1.一种有机层组合物，其包括：包括经取代或未经取代的芴结构的聚合物，由化学式2‑1或化学式3‑1表示的添加剂，以及溶剂：[化学式2‑1]其中，在化学式2‑1中，X^a是‑CH‑或氮，R^1a到R^15a各自独立地是氢、羟基或由化学式A到化学式B中的一个表示的基团，以及R^1a到R^5a中的至少一个、R^6a到R^10a中的至少一个以及R^11a到R^15a中的至少一个各自独立地是由化学式A到化学式B中的一个表示的基团，[化学式A]*‑(CH₂)_a‑Y⁰‑Y¹[化学式B]其中，在化学式A到化学式B中，a和b各自独立地是介于0到10范围内的整数，c和d各自独立地是介于1到10范围内的整数，Y⁰是氧、硫或‑S(O₂)‑，Y¹是经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基或其组合，Y²是氢、经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基或其组合，以及*是连接点，[化学式3‑1]其中，在化学式3‑1中，X^b是‑(C_qH_2q)‑、‑(C_tR^w_2t)‑、氧、硫或‑S(O₂)‑，其中q以及t各自独立地是1到5的整数，并且R^w是经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C30芳基烷基、C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基或其组合，以及R^1b到R^10b各自独立地是氢、羟基或由化学式A到化学式B中的一个表示的基团。