[发明专利]有机层组合物、有机层以及形成图案的方法

摘要

一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]

主权项

1.一种有机层组合物，包括：由化学式1表示的结构单元组成的聚合物，由化学式2表示的单体，以及溶剂：[化学式1]其中，在化学式1中，A1以及A2各自独立地是衍生自群组1中列出的化合物的二价基团，A3以及A4各自独立地是群组2中列出的基团中的一个，m是0或1，以及“*”是连接点，[群组1]其中，在群组1中，R1、R2以及R3独立地是氢、羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6到C30芳基或其组合，Z1到Z6各自独立地是羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基或其组合，以及a、b、c、d、e以及f各自独立地是0到2的整数，[群组2]其中，在群组2中，X1以及X2各自独立地是经取代或未经取代的C6到C50亚芳基、经取代或未经取代的C1到C10含环氧烷的基团或其组合，Y1以及Y2各自独立地是经取代或未经取代的C6到C30芳基，Z7到Z10各自独立地是羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基或其组合，g、h、i以及j各自独立地是0到2的整数，k是1到3的整数，以及“*”是连接点，[化学式2]其中，在化学式2中，B0是经取代或未经取代的C3到C60环状基团、经取代或未经取代的C1到C20亚烷基、经取代或未经取代的C2到C20亚烯基、经取代或未经取代的C2到C20亚炔基或其组合，Ba以及Bb各自独立地是经取代或未经取代的C3到C60环状基团，Xa以及Xb各自独立地是羟基、亚硫酰基、硫醇基、氰基、经取代或未经取代的氨基、卤素原子、含卤素的基团、经取代或未经取代的C1到C30烷氧基或其组合，La、Lb、Lc以及Ld各自独立地是单键、经取代或未经取代的C1到C6亚烷基、经取代或未经取代的C6到C30亚芳基或其组合，以及na以及nb各自独立地是1到6的整数，其限制条件是na+nb≤(B0的取代基的最大数目)。