[发明专利]成膜组合物及利用其制备膜的方法有效
申请号: | 201510920334.5 | 申请日: | 2015-12-11 |
公开(公告)号: | CN105986240B | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | 郑在善;李相京;洪畅成;金贤俊;申镇豪;金大玹;文志原;孙英镇;李正烨;张准洙 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士有限公司;秀博瑞殷西格玛奥德里奇有限会社 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C07F7/28;C07F7/00 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 郭放;许伟群 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种成膜组合物,所述组合物包含3‑内环环戊二烯基前体及二甲基乙胺,所述组合物用于原子层沉积,并且在维持金属前体的独有特征的同时,也改善了粘度及挥发性。 | ||
搜索关键词: | 组合 利用 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种成膜组合物,其包含:3‑内环环戊二烯基前体和二甲基乙胺,其中,所述3‑内环环戊二烯基前体用下式1表示:[式1]
其中,M选自Zr、Hf及Ti。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的