[发明专利]一种清洗装置在审

专利信息
申请号: 201510923704.0 申请日: 2015-12-11
公开(公告)号: CN105478398A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 葛相飞 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: B08B3/00 分类号: B08B3/00;B08B13/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 梁恺峥
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种清洗装置。该清洗装置至少包括:第一清洗回路,用于进行清洗;第二清洗回路,与第一清洗回路并联设置;机台,获取第一清洗回路的两端的第一压力差;其中,机台将第一压力差和预设的压力阈值进行比较,若第一压力差超过预设的压力值,则机台将第一清洗回路切换为第二清洗回路进行清洗,第一清洗回路更换滤芯。通过以上方式,本发明能够提升产能。
搜索关键词: 一种 清洗 装置
【主权项】:
一种清洗装置,其特征在于,所述清洗装置至少包括:第一清洗回路,用于进行清洗;第二清洗回路,与所述第一清洗回路并联设置;机台,获取所述第一清洗回路的两端的第一压力差;其中,所述机台将所述第一压力差和预设的压力阈值进行比较,若所述第一压力差超过所述预设的压力值,则所述机台将所述第一清洗回路切换为所述第二清洗回路进行清洗,所述第一清洗回路更换滤芯。
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