[发明专利]减小大宽带低损耗梯形声表滤波器带内波动的方法有效
| 申请号： | 201510937771.8 | 申请日： | 2015-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN105490660B | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 闫坤坤;黄歆;杨丽萍;刘璐;杨思川 | 申请（专利权）人： | 北京中科飞鸿科技有限公司 |
| 主分类号： | H03H9/02 | 分类号： | H03H9/02;H03H9/64;H03H3/08 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 郑立明;郑哲 |
| 地址： | 100095 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种减小大宽带低损耗梯形声表滤波器带内波动的方法，包括：在15°YX‑LiNbO3基片上沉积铜膜制备梯形声表滤波器；选取光刻型聚酰亚胺树脂，并利用套刻工艺，在梯形声表滤波器并联谐振器表面涂覆所述光刻型聚酰亚胺树脂，并进行高温亚胺化处理；从而在梯形声表滤波器并联谐振器表面形成一层聚酰亚胺薄膜。本发明公开的方法可有效抑制带内寄生效应，减小带内波动。 | ||
| 搜索关键词： | 声表滤波器 带内波动 减小 聚酰亚胺树脂 并联谐振器 大宽带 低损耗 光刻 聚酰亚胺薄膜 表面涂覆 表面形成 沉积铜膜 有效抑制 亚胺化 套刻 制备 | ||
【主权项】：
1.一种减小大宽带低损耗梯形声表滤波器带内波动的方法，其特征在于，包括：在15°YX‑LiNbO3基片上沉积铜膜制备梯形声表滤波器；选取光刻型聚酰亚胺树脂，并利用套刻工艺，在梯形声表滤波器并联谐振器表面涂覆所述光刻型聚酰亚胺树脂，并进行高温亚胺化处理；从而在梯形声表滤波器并联谐振器表面形成一层聚酰亚胺薄膜；其中，所述套刻工艺包括：匀胶、前烘、光刻、中烘、显影、漂洗与甩干；套刻工艺的执行步骤与条件包括：匀胶采用甩胶法，分两步；匀胶条件为：第一步转速500～1000rpm，时间5～10s；第二步转速3000～6000rpm，时间15～25s；前烘条件为：温度90～120℃，时间10～20min；光刻曝光剂量：40～90mJ/cm2；中烘条件为：温度80～100℃，时间5～10min；显影条件为：室温，40～70s；漂洗条件为专用漂洗液，室温，10～40s；甩干条件为第一步(500～1000)rpm×(2～8)s，第二步(3000～6000)rpm×(5～10)s。
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