[发明专利]一种具有层状壳层结构的中空球形二硫化钼的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510940983.1 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105366726B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 孟宪伟;谭龙飞;王胜平 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C01G39/06 分类号: C01G39/06
代理公司: 北京正理专利代理有限公司11257 代理人: 张文祎,赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种具有层状壳层结构的中空球形二硫化钼的制备方法,包括制备前驱体溶液,将前驱体溶液超声雾化,将雾滴随载气加热,得到具有层状壳层结构的中空球形二硫化钼,粒径为500‑5000nm,壳层厚度为3‑30nm,壳层为层状结构。本发明具有超快速、能够连续化生产二硫化钼的特点。
搜索关键词: 一种 具有 层状 结构 中空 球形 二硫化钼 制备 方法
【主权项】:
一种具有层状壳层结构的中空球形二硫化钼的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)制备前驱体溶液:在水体系中,将钼源与硫源在酸性条件下进行反应,得到前驱体溶液;其中,钼和硫的原子比为1:1‑50,所述的酸性条件为pH为1.0‑6.5;2)制备前驱体溶液雾滴:将步骤1)得到的前驱体溶液经超声雾化,使前驱体溶液以亚微米小液滴的形式存在,得到前驱体溶液雾滴;3)制备具有层状壳层结构的中空球形二硫化钼:将步骤2)得到的前驱体雾滴随惰性气体载气流入温度为400℃‑800℃的反应器进行加热反应,流出的产物由水收集,得到具有层状壳层结构的中空球形二硫化钼,所述中空球形二硫化钼的粒径为500‑5000nm,壳层厚度为3‑30nm,壳层为层状结构。
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