[发明专利]一种高分子基材用的光固化防水涂层及其制备方法在审
申请号: | 201510944251.X | 申请日: | 2015-12-16 |
公开(公告)号: | CN105349025A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 陈奠宇;邓昭逸;范新传;周国威 | 申请(专利权)人: | 常熟理工学院 |
主分类号: | C09D175/14 | 分类号: | C09D175/14;C09D7/12;C08J7/04;C08L27/06;C08L23/06;C08L23/12;C08L67/02;C08L25/06 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴 |
地址: | 215500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及高分子材料技术领域,本发明要求保护一种高分子基材用的光固化防水涂层,其包括如下组分及重量比:49-75%的光敏树脂,5-45%的防水性氟碳功能稀释剂,5-20%的光敏交联性稀释剂,1-6%的光引发剂,0-8%的消光粉。本发明得到的高分子基材表面处理的光固化防水涂层有效地解决了现有光固化涂层在高分子基材表面的涂覆难题,获得的涂层经重压无白印,经300次摩擦漆膜不脱落,经20次弯折无折痕,且其防水效果均达到行业要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 高分子 基材 光固化 防水 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高分子基材用的光固化防水涂层,其特征在于,其包括如下组分及重量比:49‑75%的光敏树脂,5‑45%的防水性氟碳功能稀释剂,5‑20%的光敏交联性稀释剂,1‑6%的光引发剂,0‑8%的消光粉。
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