[发明专利]相变化记忆体及其制造方法在审
申请号: | 201510944666.7 | 申请日: | 2015-12-16 |
公开(公告)号: | CN105428529A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 苏水金 | 申请(专利权)人: | 宁波时代全芯科技有限公司;英属维京群岛商时代全芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 315195 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明揭露一种相变化记忆体及其制造方法。相变化记忆体包含主动元件、下电极、第一绝缘层、上电极、弓形加热器以及环状相变化层。下电极耦接主动元件,第一绝缘层位于下电极上方,而上电极位于第一绝缘层上方。弓形加热器嵌于第一绝缘层中,而环状相变化层则围绕第一绝缘层与上电极,且环状相变化层接触弓形加热器的一侧面。由于弓形加热层与环状相变化层之间的接触面积很小,因此相变化记忆体的重置电流很低。 | ||
搜索关键词: | 相变 记忆体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造相变化记忆体的方法,其特征在于,包含:形成一下电极;形成一弓形加热器于该下电极上方;形成一第一绝缘层覆盖该弓形加热器;形成一上电极于该第一绝缘层上;以及形成一环状相变化层围绕该第一绝缘层与该上电极,其中该环状相变化层接触该弓形加热器的一弧面。
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