[发明专利]耐磨的微球形NiO/SiO2催化剂的制备方法在审
| 申请号： | 201510947032.7 | 申请日： | 2015-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN105396592A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 钟俊超 | 申请（专利权）人： | 钟俊超 |
| 主分类号： | B01J23/755 | 分类号： | B01J23/755;B01J35/10;C01B33/107 |
| 代理公司： | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人： | 宛文鸣;胡耀成 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种耐磨的微球形NiO/SiO2催化剂的制备方法，先将沉淀法二氧化硅粉或白炭黑在730-760℃焙烧，加水混匀，用研磨分散设备将二氧化硅微颗粒磨到平均直径2-5um，加硅溶胶混匀，喷雾造粒，650-720℃焙烧，制得微球形二氧化硅载体，浸渍硝酸镍溶液，烘干，焙烧，制得本发明耐磨的微球形NiO/SiO2催化剂。所制备催化剂，不仅具有合适的孔结构，还具有较高的机械强度和耐磨性，具有较高的催化活性，适用于流化床催化反应。本发明还提供了所制备的微球形NiO/SiO2催化剂在由四氯化硅氢化制备三氯氢硅反应中的应用方法及效果。 | ||
| 搜索关键词： | 耐磨 球形 nio sio sub 催化剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种耐磨的微球形NiO/SiO2催化剂的制备方法，包括以下步骤：A、将比表面积250‑600m2/g的沉淀法二氧化硅粉或白炭黑，在730‑760℃焙烧2‑4hr，使其比表面积降低到100‑220m2/g，制得焙烧二氧化硅粉；B、以质量份计，水300‑500份，焙烧二氧化硅粉100份，混匀，用研磨分散设备将二氧化硅微颗粒磨到平均直径2‑5um，制得分散液；C、分散液中加硅溶胶30‑100份，混合均匀，制得混合浆料；硅溶胶所引入SiO2的量为总SiO2量的10‑20％，硅溶胶的胶粒平均直径为10‑20nm；D、混合浆料在180‑250℃喷雾造粒，造粒粉650‑720℃焙烧2‑4hr，制得平均直径50‑250um的微球形二氧化硅载体，载体比表面积80‑200m2/g，孔体积0.5‑0.7ml/g，平均孔直径15‑25nm；E、二氧化硅载体浸渍硝酸镍溶液，烘干，400‑600℃焙烧2‑4hr，制得本发明耐磨的微球形NiO/SiO2催化剂，催化剂NiO的质量含量5‑20％，比表面积60‑180m2/g，孔体积0.4‑0.6ml/g，平均孔直径12‑23nm。
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