[发明专利]一种高电学稳定性的铁电/半导体/PMMA三元复合阻变薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201510950012.5 | 申请日： | 2015-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN105514273A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 朱国栋 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | H01L51/05 | 分类号： | H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于阻变存储器技术领域，具体为一种高电学稳定性的铁电/半导体/PMMA三元复合阻变薄膜及其制备方法。本发明的三元复合阻变薄膜是对铁电/半导体复合薄膜进行聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)掺杂而得到，PMMA的掺杂量与铁电聚合物的质量比为0.1:10-0.3:10。该三元复合薄膜的表面粗糙度、抗电疲劳特性和阻态保持性能都得到明显改善。由于PMMA与铁电聚合物P(VDF-TrFE)互溶性佳，可有效降低铁电相的漏电特性；而PMMA与有机半导体，如P3HT，形成层状相分离结构，可有效抑制半导体相的漏电，降低半导体相电击穿的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电学 稳定性 半导体 pmma 三元 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种铁电/半导体/PMMA三元复合阻变薄膜，其特征在于对铁电/半导体复合薄膜进行聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)掺杂而得到，PMMA的掺杂量与铁电聚合物的质量比为0.1:10‑0.3:10。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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