[发明专利]氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示装置的阵列基板的方法有效
申请号: | 201510951854.2 | 申请日: | 2015-12-17 |
公开(公告)号: | CN105820819B | 公开(公告)日: | 2018-12-11 |
发明(设计)人: | 权五柄;郑敬燮;金相泰;朴镛云;李恩远;李智娟;崔容硕 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C09K13/08 | 分类号: | C09K13/08;G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 石宝忠 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示装置的阵列基板的方法,更具体地说,涉及不包括硫酸盐或乙酸盐、而是包括硝酸、唑类化合物、含氟化合物和水的氧化铟层蚀刻液组合物,以及利用其制造液晶显示装置的阵列基板的方法。 | ||
搜索关键词: | 氧化 蚀刻 组合 利用 制造 液晶 显示装置 阵列 方法 | ||
【主权项】:
1.氧化铟层蚀刻液组合物,其不包括选自由硫酸盐和乙酸盐所组成的组中的一种或多种,并相对于所述氧化铟层蚀刻液组合物的总重量包括:3至30重量%的硝酸;0.1至10重量%的苯并三唑;0.01至5重量%的氟氢化铵;和余量的水,使得所述氧化铟层蚀刻液组合物的总重量成为100重量%。
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