[发明专利]一种异性塔垒式双面按键板制作方法有效

专利信息
申请号: 201510957150.6 申请日: 2015-12-18
公开(公告)号: CN105979712B 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 李高猛;朱晓菲;张海军;王恒星;孙坤坤;刘攀 申请(专利权)人: 昆山铨莹电子有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种异性塔垒式双面按键板制作方法,包括以下步骤:S1干膜:首先在按键板的各个底铜面上需要加厚的部位进行干膜,以便产生一种稳定的物质附着在底铜面上;S2二铜:经过干膜以后,在按键板的各个部位进行电镀,形成一层金属膜;S3干膜:然后将异性底铜面覆盖,把同性底铜面作出图形;S4蚀刻:然后确认底同性底铜的厚度正常负片蚀刻;S5干膜:然后将已经蚀刻的同性底铜面覆盖,再将异性底铜面做出图形;S6蚀刻:然后确认异性底铜厚度正常负片蚀刻,本发明可以使印制电路板正反面铜箔的不同,实现对铜箔厚度的塔垒式布局,并且可以达到高低频共存,适用于电路板的双面,并且每面的电路板相互独立,可以实现独立连通。
搜索关键词: 一种 异形 塔垒式 双面 按键 制作方法
【主权项】:
1.一种异性塔垒式双面按键板制作方法,其特征在于:所述异性塔垒式双面按键板制作方法包括以下步骤:S1干膜:首先在按键板的各个底铜面上需要加厚的部位进行干膜,以便产生一种稳定的物质附着在底铜面上;S2二铜:经过干膜以后,在按键板的各个部位进行电镀,形成一层金属膜;S3干膜:然后将异性底铜面覆盖,把同性底铜面作出图形;S4蚀刻:然后确认同性底铜的厚度正常负片蚀刻;S5干膜:然后将已经蚀刻的同性底铜面覆盖,再将异性底铜面做出图形;S6蚀刻:然后确认异性底铜厚度正常负片蚀刻。
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