[发明专利]一种超亲水自清洁二氧化硅减反射膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201510958593.7 | 申请日： | 2015-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN106892574B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 杨海龄;郝雷;张子楠;王吉宁;米菁;于庆河;杜淼;赵旭山;王笑静;李世杰;余航;刘晓鹏;蒋利军 | 申请（专利权）人： | 有研工程技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/25 | 分类号： | C03C17/25 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 101407 北京市怀*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种超亲水性清洁二氧化硅减反射膜及其制备方法。该减反射膜为多孔膜结构，孔径在5‑8nm之间，膜层为溶胶凝胶法酸性膜，表面富含羟基，静态水接触角小于5°，膜层厚度为100‑200nm，折射率在1.2‑1.4之间。其制备方法包括：(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇为原料制备胶液A；(2)将胶液A陈化后进行回流处理去除碱催化剂；(3)以经回流处理后的胶液A、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇为原料制备胶液B；(4)将清洗洁净的玻璃基片从溶胶B中提拉镀膜并进行退火；(5)将退火制备的膜层在低浓度盐酸中浸泡，清洗去除残留盐酸；(6)将膜层在水蒸气下放置。该减反射膜兼具透过率高，硬度、膜层附着力大的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 减反射膜 胶液 膜层 制备 退火 正硅酸乙酯 二氧化硅 回流处理 碱催化剂 去离子水 无水乙醇 原料制备 去除 清洗 表面富含羟基 静态水接触角 水蒸气 低浓度盐酸 多孔膜结构 膜层附着力 溶胶凝胶法 玻璃基片 超亲水性 酸催化剂 提拉镀膜 超亲水 透过率 折射率 自清洁 陈化 盐酸 浸泡 下放 残留 洁净 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种超亲水性清洁二氧化硅减反射膜，其特征在于，该二氧化硅减反射膜为多孔膜结构，孔径在5‑8nm之间，膜层为溶胶凝胶法酸性膜，表面富含羟基，静态水接触角小于5o，膜层厚度为100‑200nm，折射率在1.2‑1.4之间；该二氧化硅减反射膜的制备方法包括以下步骤：（1）以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇为原料制备二氧化硅颗粒胶液A，正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇摩尔比为1:(1‑10):(0.005‑0.05):(10‑70)，将去离子水、碱催化剂、无水乙醇进行搅拌反应2h后将正硅酸乙酯加入，搅拌1‑24h后陈化3‑4天之间得到二氧化硅颗粒胶液A；（2）将二氧化硅颗粒胶液A陈化后进行回流处理去除碱催化剂；（3）以经回流处理后的二氧化硅颗粒胶液A、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇为原料制备胶液B；（4）将清洗洁净的玻璃基片从溶胶B中提拉镀膜并进行退火；（5）将退火制备的膜层在低浓度盐酸中浸泡，浸泡完成后用去离子水清洗去除残留盐酸；（6）将膜层在水蒸气下放置。
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