[发明专利]一种导轨平行度测量方法及装置在审

专利信息
申请号: 201510961972.1 申请日: 2015-12-18
公开(公告)号: CN105403189A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 李曦;陈晗;孔刚;朱念念;龙子凡;郭永才;毛延玺;陈吉红 申请(专利权)人: 华中科技大学;武汉华中数控股份有限公司
主分类号: G01B21/22 分类号: G01B21/22
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种导轨平行度测量方法,具体为:将左、右侧导轨的其中一侧作为基准导轨,另一侧作为被测导轨;同时采样左侧、右侧导轨的高度信息;采用最小二乘法对基准导轨的采样高度进行拟合得到一条基线;在基准导轨上依据基线生成两组包容线,从两组包容线的间距选择最小者,其对应的上、下包容线作为评定平行度的基准包容线;生成平行于基准包容线且包容被测导轨采样高度的上、下包容线,上、下包容线间的纵向间距即为平行度。本发明还提供实现上述方法的装置。本发明实现了机床导轨平行度的快速测量,解决现有测量方法计算冗杂、操作难度大的问题。
搜索关键词: 一种 导轨 平行 测量方法 装置
【主权项】:
一种导轨平行度测量方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将左、右侧导轨的其中一侧作为基准导轨,另一侧作为被测导轨;(2)同时采样左侧、右侧导轨的高度信息;(3)采用最小二乘法对基准导轨的采样高度进行拟合得到一条基线;(4)在基准导轨上搜索距离基线上方最远的两个测量点高度,两高度连接生成第一上包容线;在基准导轨上搜索距离基线下方最远的一个测量点高度,生成通过该测量点且平行于第一上包容线的第一下包容线;(5)在基准导轨上搜索距离基线下方最远的两个测量点高度,两高度连接生成第二下包容线;在基准导轨上搜索距离基线上方最远的一个测量点高度,生成通过该测量点且平行于第二下包容线的第二上包容线;(6)从第一上、下包容线的间距和第二上、下包容线的间距选择最小者,其对应的上、下包容线作为评定平行度的基准包容线;(7)生成平行于基准包容线且包容被测导轨采样高度的上、下包容线,上、下包容线间的纵向间距即为平行度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学;武汉华中数控股份有限公司,未经华中科技大学;武汉华中数控股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510961972.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top