[发明专利]Rogers平板电容及其制备方法

摘要

本发明公开了一种Rogers平板电容及其制备方法，该制备方法包括：1)将基片依次经过丙酮溶液、去油液进行清洗，然后经过酸洗液进行酸洗；2)将基片进行光刻处理；3)将光刻处理后的基片的表面进行电镀处理；4)将基片的表面上的未变性的感光胶通过去胶液进行去胶处理；5)将去胶处理后的基片通过铜刻蚀液进行刻蚀处理；6)将刻蚀处理后的基片进行清洗以制得Rogers平板电容；其中，去油液含有碳酸钠、磷酸钠和乳化剂，酸洗液含有硫酸和三氧化铬；铜刻蚀液含有三氧化铬、氯化钠、硫酸和水；去胶液为碱液；基片为Rogers覆铜板。通过该方法制得的Rogers平板电容具有精确的平板电容的数值，并且该制备方法成本低廉且能够批量生产。

主权项

1.一种Rogers平板电容的制备方法，其特征在于，包括：1)将基片依次经过丙酮溶液、去油液进行清洗，然后经过酸洗液进行酸洗；2)将基片进行光刻处理；3)将光刻处理后的所述基片的表面进行电镀处理；4)将所述基片的表面上的未变性的感光胶通过去胶液进行去胶处理；5)将去胶处理后的所述基片通过铜刻蚀液进行刻蚀处理；6)将刻蚀处理后的所述基片进行清洗以制得所述Rogers平板电容；其中，所述去油液含有碳酸钠、磷酸钠和乳化剂，所述酸洗液含有硫酸和三氧化铬；所述铜刻蚀液含有三氧化铬、氯化钠、硫酸和水；所述去胶液为碱液；所述基片为Rogers覆铜板；在所述去油液中，所述碳酸钠的浓度为15‑25g/l，所述磷酸钠的浓度为15‑25g/l，所述乳化剂的浓度为2‑5g/l；在所述酸洗液中，所述硫酸的浓度为45‑60ml/L，所述三氧化铬的浓度为250‑300g/L；在所述铜刻蚀液中，所述三氧化铬的浓度为180‑220g/L，所述氯化钠的浓度为3‑7g/L、所述硫酸的浓度为40‑50g/L；在步骤1)中，所述丙酮溶液的温度为40‑60℃，所述基片于所述丙酮溶液中的浸泡时间为15‑20min；所述去油液的温度为40‑60℃，并且所述基片于所述去油液中超声浸泡15‑20min；所述基片于所述酸洗液中清洗时间为5‑15s；所述基板表面形成电镀层为电镀锡铋层或镀金层。