[发明专利]光栅点阵防伪标识、及其生成方法与生成系统在审
| 申请号： | 201510977825.3 | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105574571A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 姚为;万宏宇 | 申请（专利权）人： | 立德高科(北京)数码科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G06K19/06 | 分类号： | G06K19/06;G09F3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100081 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光栅点阵防伪标识，包括标识基层与印制其上的点阵图形，在点阵图形上还覆盖有光栅片层。上述光栅点阵防伪标识的生成方法，包括：将点阵图形的电子图样印刷在标识基层上；将光栅片层附着在点阵图形上，以形成光栅点阵防伪标识；使光栅点阵防伪标识进行旋转，在采集其在不同旋转角度的光栅片层中所形成的图像后，上传至服务器；将采集的图像分别与点阵图形的码值进行关联绑定。上述光栅点阵防伪标识的生成系统，包括光栅点阵防伪标识生成装置、标识形状判定装置、旋转基准选定装置、旋转角度设定装置、旋转路径生成装置、旋转平台、图像采集设备与服务器。本发明可以通过多种角度对点阵图形进行识读，使其适用范围更广。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 点阵 防伪 标识 及其 生成 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种光栅点阵防伪标识，包括标识基层与印制其上的点阵图形，其特征在于，在所述点阵图形上还覆盖有光栅片层。
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