[发明专利]一种旋转硅镁合金靶材及其制备方法

摘要

本发明涉及一种旋转硅镁合金靶材，其纯度大于99.9%，镁含量分别为30wt%、40wt%、50wt%，硅余量。本发明还公开一种制备旋转硅镁合金靶材的方法，工艺如下：预处理：对不锈钢背管进行预处理，其中包括清洗，喷砂粗化；喷涂粘结层：即利用电弧喷涂，在不锈钢背管喷涂一层0.2‑0.5mm厚的镍铝合金涂层，所述涂层起连接不锈钢背管和后续喷涂的靶材材料作用；等离子喷涂沉积硅镁涂层：利用等离子喷涂设备将配置好的硅镁粉熔射沉积在不锈钢背管上面形成硅镁涂层。本发明的靶材安全性能高，而且均匀性好。

主权项

1.一种旋转硅镁合金靶材的制备方法，其特征在于：所述的旋转硅镁合金靶材的纯度大于99.9％，镁含量分别为30wt％、40wt％、50wt％，硅余量，其制备工艺如下：预处理：对不锈钢背管进行预处理，其中包括清洗，喷砂粗化；喷涂粘结层：利用电弧喷涂，在不锈钢背管喷涂一层0.2‑0.5mm厚的镍铝合金涂层，所述涂层起连接不锈钢背管和后续喷涂的靶材材料作用；等离子喷涂沉积硅镁涂层：利用等离子喷涂设备将配置好的硅镁粉熔射沉积在不锈钢背管上面形成硅镁涂层；其中，所述硅镁粉按照如下工艺进行配制：步骤(1)：预混：将硅粉与镁粉置于三维混料机中预混，其中预混时间为5‑8小时；步骤(2)：配置浆料：将预混料按70％的比例混于酒精溶液中，制成浆料，按重量配以0.5％的分散剂；步骤(3)：分散：将上述浆料置于超声机中，利用超声波使其分散，同时进行人工搅拌，持续1小时；步骤(4)：将步骤(3)所制备的浆料加入喷雾造粒机中，制备出D50在80‑100μm的硅镁粉；步骤(5)：将步骤(4)所制得的造粒料置于真空烧结炉中煅烧所得，其中，步骤(5)的煅烧温度控制在300‑450摄氏度，煅烧时间控制在60‑180min，其中，所述等离子喷涂的工艺参数如下：主气流量1600‑1800L/h、次气流量120‑140L/h、喷涂电压60‑65V、喷涂电流520‑550A、枪距130mm、背管旋转速度100r/min、以及喷枪移动速度8mm/s。