[发明专利]一种除绕镀膜的方法在审
| 申请号： | 201510981220.1 | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105470348A | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 黄磊;许路加;蒋方丹;金浩 | 申请（专利权）人： | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 314416 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种除绕镀膜的方法，包括：在硅片正面的氮化硅膜表面形成水膜；将具有水膜的所述硅片放入氢氟酸溶液中，调整所述氢氟酸溶液的高度不高于所述硅片；在所述水膜对所述硅片正面的氮化硅膜形成保护的基础上，利用所述氢氟酸溶液去除位于所述硅片背面的绕镀膜；喷水清除残留在所述硅片上的所述氢氟酸溶液。本申请提供的上述除绕镀膜的方法，能够在低成本的前提下，提高去除绕镀膜的效率，使背面抛光更均匀，同时不影响正面绒面，从而提高电池片效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种除绕镀膜的方法，其特征在于，包括：在硅片正面的氮化硅膜表面形成水膜；将具有水膜的所述硅片放入氢氟酸溶液中，调整所述氢氟酸溶液的高度不高于所述硅片；在所述水膜对所述硅片正面的氮化硅膜形成保护的基础上，利用所述氢氟酸溶液去除位于所述硅片背面的绕镀膜；喷水清除残留在所述硅片上的所述氢氟酸溶液。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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