[发明专利]一种在钛合金遮光罩内部生长碳纳米管的均匀性控制方法有效
申请号: | 201510981274.8 | 申请日: | 2015-12-23 |
公开(公告)号: | CN105543804B | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 郝云彩;骞伟中;余成武;于翔;杨淑慧;黄佳琦;梁士通 | 申请(专利权)人: | 北京控制工程研究所 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/02;C23C16/50 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心11009 | 代理人: | 陈鹏 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种在钛合金遮光罩内部生长碳纳米管的均匀性控制方法,步骤为(1)将钛合金遮光罩在高温及工艺气存在条件下热处理,在钛合金遮光罩表面形成规则的含碳‑钛化合物的突起,然后氧化;(2)将钛合金遮光罩浸入正硅酸乙酯或者钛酸乙酯纯液体中反应,然后向内腔通入水或水蒸汽并加热,在钛合金遮光罩内腔表面形成氧化硅或氧化钛层;(3)将钛合金遮光罩放入具有进料管的空腔反应器中,然后将空腔反应器加热;(4)通过进料管将碳源与金属前驱体同时通入空腔反应器,在钛合金遮光罩内腔的不同部位分解并沉积碳纳米管阵列;(5)在反应器外侧同时施加等离子体场,反应后停止通碳源,关闭升温系统,通入惰性气体,待降至室温后取出最终产品。 | ||
搜索关键词: | 一种 钛合金 遮光 内部 生长 纳米 均匀 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种在钛合金遮光罩内部生长碳纳米管的均匀性控制方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将钛合金遮光罩在500~700℃及工艺气存在条件下,热处理0.5~3小时,在钛合金遮光罩表面形成规则的含碳‑钛化合物的突起,然后再在氧气或空气环境下300~500℃热处理0.5~5小时;所述的工艺气体,是乙醇与氢、氮、氩中的一种或以上的混合物,其中乙醇体积分数不低于50%;(2)将步骤(1)得到的钛合金遮光罩浸入正硅酸乙酯或者钛酸乙酯纯液体中0.5~2小时后取出,然后向钛合金遮光罩内腔定向通入水或水蒸汽,并加热至100~150℃,在钛合金遮光罩内腔表面形成厚度为0.1~5微米的氧化硅或氧化钛层;(3)将步骤(2)得到的钛合金遮光罩放入具有进料管的空腔反应器中,钛合金遮光罩四周均悬空支放,进料管伸入钛合金遮光罩内部,然后将空腔反应器加热至400~600℃;(4)通过进料管将碳源与金属前驱体同时通入空腔反应器,在钛合金遮光罩内腔的不同部位分解并沉积碳纳米管阵列;所述的金属前驱体为铁、钴、镍的茂金属化合物、氯化物、硝酸盐或者羰基化合物;(5)在反应器外侧同时施加等离子体场,反应0.2~20小时后停止通碳源,关闭升温系统,通入惰性气体,待降至室温后取出均匀生长碳纳米管后的钛合金遮光罩。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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