[发明专利]抑制镀层锡须生长的电镀液及其应用在审
申请号: | 201510981574.6 | 申请日: | 2015-12-23 |
公开(公告)号: | CN105463523A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | 冯正元;冯育华 | 申请(专利权)人: | 苏州市金星工艺镀饰有限公司 |
主分类号: | C25D3/30 | 分类号: | C25D3/30;C25D3/32 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 215132 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了抑制镀层锡须生长的电镀液及其应用,酸性镀液采用甲基磺酸、乙酸、盐酸的混合溶液、锡盐采用可溶性四硫代钼酸锡和十二烷基硫酸盐的混合溶液、且添加了固色剂、分散剂、光亮剂、去杂掩蔽剂、表面活性剂等成分,且在应用的过程中采用了独特的电镀液配制方法和使用注意事项,与传统电镀液的应用相比,对锡须的生长抑制效果明显,大大降低了锡须的生长速率,减少电镀件表面锡须的生长,且使用本发明进行电镀后镀层具有柔韧性和延展性好,对镀层裂纹的出现具有很好的缓解作用,对温度承受能力较灵活,具有很强的实用价值。 | ||
搜索关键词: | 抑制 镀层 须生 电镀 及其 应用 | ||
【主权项】:
抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于包括如下组成成分:体积比为5:1:2的甲基磺酸、乙酸、盐酸的混合溶液20‑40份、可溶性四硫代钼酸锡8‑12份、十二烷基硫酸盐12‑15份、固色剂2‑6份、分散剂3‑8份、光亮剂3‑5份、去杂掩蔽剂4‑6份、表面活性剂1‑3份,水20‑30份,其中上述份数的计算方式为以质量进行计算。
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