[发明专利]一种聚焦环的温度调整装置及方法

摘要

本发明提供一种聚焦环的温度调整装置及方法，等离子体辐射到聚焦环上的热量，通过与聚焦环下表面接触的第一导热垫、与第一导热垫下表面接触的绝缘环、与绝缘环下表面接触的第二导热垫，向下传递到与第二导热垫接触的基座，通过基座设置的冷却系统进行冷却降温；开启接地的屏蔽环中所设置的加热器来产生可控的外加热源，所述外加热源的热量通过屏蔽环、与屏蔽环接触的第三导热垫、与第三导热垫接触的绝缘环、第一导热垫传递到聚焦环，对聚焦环实施可控升温。本发明通过提供良好的导热冷却路径，并结合可控参数的加热方式，实现对聚焦环工作温度的精细控制，使其在刻蚀等处理中可调谐，从而满足工艺需求。

主权项

1.一种聚焦环的温度调整装置，设置于等离子体处理装置，所述等离子体处理装置包含可被抽真空的反应腔室（10），其内部形成有对基片（40）进行处理的等离子体；所述反应腔室（10）内的底部设有承载基片（40）的基座（30），在所述基片（40）的外缘环绕设置有聚焦环（50）；所述聚焦环（50）下方设置有绝缘环（60），该绝缘环（60）位于基座（30）边缘的台阶上；其特征在于，所述温度调整装置中包含产生外加热源的加热器（73），其设置在接地的屏蔽环（70）中；所述屏蔽环（70）环绕着基座（30）边缘的台阶外缘及绝缘环（60）的外缘；所述屏蔽环（70）与绝缘环（60） 相互接触的位置设有导热垫（93），使得所述外加热源的热量经由屏蔽环（70）、导热垫（93）、绝缘环（60）传递给聚焦环（50），对聚焦环（50） 的温度进行调整。