[发明专利]用于制作带有侧壁凹陷的半导体器件的方法及相关器件有效

专利信息
申请号: 201510992712.0 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN106298550B 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: J·塔利多 申请(专利权)人: 意法半导体公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;董典红
地址: 菲律宾*** 国省代码: 菲律宾;PH
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摘要: 本申请涉及用于制作带有侧壁凹陷的半导体器件的方法及相关器件。该方法可以包括提供具有凹陷的引线框、在该引线框的该凹陷内形成牺牲材料以及在该引线框上安装IC。该方法可以包括:包封该IC和该引线框、去除该引线框的多个部分以限定用于该IC的多个引线框触点以及去除该牺牲材料以针对每个引线框触点来限定焊料锚固接片,该焊料锚固接片在下部区域处向外延伸并且在该焊料锚固接片与该包封材料的相对部分之间限定了侧壁凹陷。
搜索关键词: 用于 制作 带有 侧壁 凹陷 半导体器件 方法 相关 器件
【主权项】:
1.一种用于制作半导体器件的方法,所述方法包括:提供在其中具有凹陷的引线框;在所述引线框的所述凹陷内形成牺牲材料;在所述引线框上安装集成电路(IC);利用包封材料对所述IC和所述引线框进行包封;去除所述引线框的多个部分以限定用于所述IC的多个引线框触点;以及去除所述牺牲材料以针对每个引线框触点来限定焊料锚固接片,所述焊料锚固接片在其下部区域处向外延伸并且在所述焊料锚固接片与所述包封材料的相对部分之间限定了侧壁凹陷。
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