[发明专利]单面横向梯度掺杂异质结电池及其制备方法有效
申请号: | 201510992824.6 | 申请日: | 2015-12-25 |
公开(公告)号: | CN105552150B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 孙晨光 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/077;H01L31/20 |
代理公司: | 常州市科谊专利代理事务所32225 | 代理人: | 肖兴坤 |
地址: | 213022 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种单面横向梯度掺杂异质结电池及其制备方法,单面横向梯度掺杂异质结电池包括本体,所述本体具有梯度掺杂层,所述梯度掺杂层包括相互隔离的P型掺杂层和N型掺杂层,P型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个P型掺杂子层,N型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个N型掺杂子层。本发明能够改善电池内的电场分布,有效地提升了载流子输运效率,降低了电池的串联电阻,获得了较高的电流,同时有利于减少栅线数量,从而减小栅线对光的遮挡损失,提升了电池对光的吸收作用,提高工艺良率。 | ||
搜索关键词: | 单面 横向 梯度 掺杂 异质结 电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种单面横向梯度掺杂异质结电池的制备方法,单面横向梯度掺杂异质结电池包括本体,所述本体具有梯度掺杂层,所述梯度掺杂层包括相互隔离的P型掺杂层和N型掺杂层,P型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个P型掺杂子层,N型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个N型掺杂子层,所述本体还具有N型晶体硅衬底(1)和本征非晶硅薄膜层(2),本征非晶硅薄膜层(2)设置在N型晶体硅衬底(1)的正面上,所述梯度掺杂层设置在本征非晶硅薄膜层(2)的上表面上,其特征在于方法的步骤如下:(1)对N型晶体硅衬底(1)进行表面处理;(2)在N型晶体硅衬底(1)的表面生长本征非晶硅薄膜层(2);(3)制备梯度掺杂层:在本征非晶硅薄膜层(2)上分别沉积不同浓度的P型掺杂子层和N型掺杂子层,形成相互隔离的P型掺杂层和N型掺杂层,并且P型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个P型掺杂子层,N型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个N型掺杂子层;(4)在掺杂浓度最高的N型掺杂子层和掺杂浓度最高的P型掺杂子层的上表面分别沉积透明导电膜层(9);(5)在透明导电膜层上制备金属栅线层。
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