[发明专利]单面横向梯度掺杂异质结电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510992824.6 申请日: 2015-12-25
公开(公告)号: CN105552150B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 孙晨光 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/077;H01L31/20
代理公司: 常州市科谊专利代理事务所32225 代理人: 肖兴坤
地址: 213022 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种单面横向梯度掺杂异质结电池及其制备方法,单面横向梯度掺杂异质结电池包括本体,所述本体具有梯度掺杂层,所述梯度掺杂层包括相互隔离的P型掺杂层和N型掺杂层,P型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个P型掺杂子层,N型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个N型掺杂子层。本发明能够改善电池内的电场分布,有效地提升了载流子输运效率,降低了电池的串联电阻,获得了较高的电流,同时有利于减少栅线数量,从而减小栅线对光的遮挡损失,提升了电池对光的吸收作用,提高工艺良率。
搜索关键词: 单面 横向 梯度 掺杂 异质结 电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种单面横向梯度掺杂异质结电池的制备方法,单面横向梯度掺杂异质结电池包括本体,所述本体具有梯度掺杂层,所述梯度掺杂层包括相互隔离的P型掺杂层和N型掺杂层,P型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个P型掺杂子层,N型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个N型掺杂子层,所述本体还具有N型晶体硅衬底(1)和本征非晶硅薄膜层(2),本征非晶硅薄膜层(2)设置在N型晶体硅衬底(1)的正面上,所述梯度掺杂层设置在本征非晶硅薄膜层(2)的上表面上,其特征在于方法的步骤如下:(1)对N型晶体硅衬底(1)进行表面处理;(2)在N型晶体硅衬底(1)的表面生长本征非晶硅薄膜层(2);(3)制备梯度掺杂层:在本征非晶硅薄膜层(2)上分别沉积不同浓度的P型掺杂子层和N型掺杂子层,形成相互隔离的P型掺杂层和N型掺杂层,并且P型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个P型掺杂子层,N型掺杂层具有横向依次接触并且掺杂浓度依次递增的多个N型掺杂子层;(4)在掺杂浓度最高的N型掺杂子层和掺杂浓度最高的P型掺杂子层的上表面分别沉积透明导电膜层(9);(5)在透明导电膜层上制备金属栅线层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州天合光能有限公司,未经常州天合光能有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510992824.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top