[发明专利]基于缺陷模式的静态分析方法和工具在审
| 申请号： | 201510994119.X | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN106919501A | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | 刘磊;何沁洁;孙渊博;常青;穆森 | 申请（专利权）人： | 北京计算机技术及应用研究所;北京航天爱威电子技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F11/36 | 分类号： | G06F11/36 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心11011 | 代理人： | 刘东升 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于缺陷模式的程序静态分析方法和工具，包括预编辑程序的缺陷模式；遍历文件，找到所需分析的文件；对源程序进行逐行扫描，去除无需分析的代码；进行缺陷分析，调用该缺陷模式与去除代码后的程序进行匹配，如果匹配成功，则说明该文件存在该缺陷。本发明的有益效果在于，本发明的一种基于缺陷模式的静态分析方法和工具，可以实现应用系统的兼容性检查，对迁移前的准备做出指导，对应用系统的自主可控迁移进行评估和指导。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 缺陷 模式 静态 分析 方法 工具 | ||
【主权项】：
一种基于缺陷模式的程序静态分析方法，包括：预编辑程序的缺陷模式；遍历文件，找到所需分析的文件；对源程序进行逐行扫描，去除无需分析的代码；进行缺陷分析，调用该缺陷模式与去除代码后的程序进行匹配，如果匹配成功，则说明该文件存在该缺陷。
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