[发明专利]一种限制等离子体泄露的接地环以及反应腔有效
| 申请号： | 201510995068.2 | 申请日： | 2015-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106920731B | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 吴磊;梁洁;叶如彬;浦远;杨金全;徐朝阳 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种限制等离子体泄露的接地环，其设置在一反应腔内，该反应腔内包含一限制环；所述接地环位于所述限制环下方，其包含多个半径逐渐增大的同心接地圆环，每相邻两个同心接地圆环间的间距相等，并且间距为所述限制环上相邻两个同心圆环之间间距的两倍，各个同心接地圆环分别位于所述限制环上相应同心圆环的正下方。其优点是：接地环的相邻环缝间距为限制环的2倍，确保了气流量；另一方面，其径向界面类似于限制环向下延伸，这样可以增加地电位的纵向距离，增强了限制效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 限制 等离子体 泄露 接地 以及 反应 | ||
【主权项】：
1.一种限制等离子体泄露的接地环，其设置在一反应腔腔体（6）内，该腔体（6）内包含一限制环（3），该限制环（3）包含多个同心圆环，其特征在于：所述接地环包含多个半径逐渐增大的同心接地圆环（1），以形成一密集环结构，且该接地环位于所述限制环（3）下方，各个同心接地圆环（1）分别位于所述限制环（3）上相应同心圆环的正下方；所述接地环还包含一用于托住所述限制环（3）并固定所述的各个同心接地圆环（1）的支架（2），所述支架（2）包括多个沿径向延伸的托杆（21），所述托杆（21）的靠内一端连接于靠近中央的圆形框架（22），靠外一端为自由端；每相邻两个同心接地圆环（1）之间的间距为所述限制环（3）上相邻两个同心圆环之间间距的1.5倍到3倍。
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