[发明专利]一种电极结构及ICP刻蚀机有效

专利信息
申请号: 201510995350.0 申请日: 2015-12-25
公开(公告)号: CN106920732B 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 左涛涛;吴狄;倪图强 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种用于ICP刻蚀机的电极结构,包括:电感线圈、电感线圈连接件、连接杆以及套筒;其中,电感线圈设置于绝缘窗上,绝缘窗设置于腔体盖上;连接杆两端分别连接电感线圈和电感线圈连接件;套筒为金属导体材料且接地连接,套筒的一端为端盖、另一端为开口,套筒的端盖上设置有穿孔,连接杆设置在穿孔中且与端盖相互隔离,套筒的开口朝向电感线圈设置,并将电感线圈封闭在套筒内。本发明将电感线圈连接件产生的电磁场屏蔽在套筒之外,避免了对电感线圈产生的均匀的电磁场的影响,保证了刻蚀的均匀性。
搜索关键词: 一种 电极 结构 icp 刻蚀
【主权项】:
1.一种用于ICP刻蚀机的电极结构,其特征在于,包括:电感线圈、电感线圈连接件、连接杆以及套筒;其中,电感线圈设置于绝缘窗上,绝缘窗设置于腔体盖上;连接杆两端分别连接电感线圈和电感线圈连接件;套筒为金属导体材料且接地连接,套筒的一端为端盖、另一端为开口,套筒的端盖上设置有穿孔,连接杆设置在穿孔中且与端盖相互隔离,套筒的开口朝向电感线圈设置,并将电感线圈封闭在套筒内,且电感线圈连接件设置于套筒之外。
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