[发明专利]一种碱性化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201510996511.8 | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN106916536B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋;李星 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明旨在提供一种用于抛光阻挡层的碱性化学机械抛光液，该抛光液由研磨颗粒、唑类化合物、磷酸、氯化铵、和双氧水组成，本发明通过添加平均粒径小于30nm的研磨颗粒,可以实现对低介电材料(low‑K)的抛光速度小于二氧化硅(TEOS)的抛光速率，同时抛光后，基材表面的犬牙(fang)和缺陷(Defect)现象得到显著改善。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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