[发明专利]一种金属基底上原位生长的Ni3S2包覆MMoO4复合材料及其应用在审

专利信息
申请号: 201510996638.X 申请日: 2015-12-28
公开(公告)号: CN105428081A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 王润伟;张宗弢;蔚艳茹;蒋尚 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: H01G11/30 分类号: H01G11/30;H01G11/46
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 王淑秋;王恩远
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种金属基底上生长的Ni3S2包覆的MMoO4(M=Ni,Co或Mn)复合材料及其应用。其是将M盐(M=Ni,Co或Mn),溶于去离子水中,再加入钼源,水热晶化干燥焙烧后在金属基底上生长有MMoO4纳米棒阵列;再将镍源溶于去离子水中,加入硫源,水热晶化干燥后得到金属基底上生长的Ni3S2包覆的MMoO4纳米棒阵列复合材料。M盐为Ni(NO3)2、Ni(CH3COO)2、NiCl2、NiSO4、Co(NO3)2、Co(CH3COO)2、CoCl2、CoSO4、Mn(NO3)2、Mn(CH3COO)2、MnCl2或MnSO4。该材料具有较高的比电容,良好的循环稳定性和倍率性能,它能够在超级电容器领域中得到更加广泛的应用。
搜索关键词: 一种 金属 基底 原位 生长 ni sub mmoo 复合材料 及其 应用
【主权项】:
一种金属基底上原位生长的Ni3S2包覆MMoO4纳米棒阵列复合材料,其由如下步骤制备得到:(1)将金属基底依次用2~6molL‑1的盐酸、丙酮、蒸馏水超声清洗,用以除去表面的氧化物层和油污;(2)称取0.5~2mmol M盐(M=Ni,Co或Mn),溶于20~50mL去离子水中,搅拌10~20min后缓慢加入0.5~2mmol钼源,搅拌1~2h,形成A溶液;将A溶液转移至聚四氟乙烯内衬的反应釜中,然后将清洗干净的金属基底浸入到该溶液中,在自生压力下,水热晶化,待反应结束后自然冷却至室温;将得到的金属基底用去离子水和乙醇分别洗涤多次,干燥后在空气中进行焙烧,从而在金属基底上生长有MMoO4纳米棒阵列;(3)将0.5~2mmol镍源溶解于20~50mL去离子水中,搅拌10~20min后加入0.5~4mmol硫源,搅拌2~4h,形成B溶液;将B溶液转移至聚四氟乙烯内衬的反应釜中,然后将步骤(2)得到的生长有MMoO4纳米棒阵列的金属基底浸入到该溶液中,在自生压力下,水热晶化,待反应结束后自然冷却至室温;将得到的金属基底用去离子水和乙醇分别洗涤多次,干燥后得到金属基底上生长的Ni3S2包覆的MMoO4纳米棒阵列复合材料。
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